Nanokar laboratuvarlarında yüksek teknolojiyle üretilen Hafniyum Oksit (HfO₂), %99,99 saflığı ve 44 mikron partikül boyutuyla elektronik ve optoelektronik alanlarda ileri düzey performans sunar. Hafniya olarak da bilinen bu bileşik, olağanüstü termal ve kimyasal kararlılığı sayesinde yüksek sıcaklık gerektiren uygulamalarda tercih edilen kritik bir malzemedir.

Teknik Özellikler

• Kimyasal Adı: Hafniyum (IV) Oksit

• Kimyasal Formül: HfO₂

• Saflık: %99,99

• Parçacık Boyutu: 44 µm

• CAS Numarası: 12055-23-1

• Yoğunluk: 9,68 g/cm³

• Erime Noktası: 2758 °C

• Kaynama Noktası: 5400 °C

• Elektrik Direnci: 4,5 x 10³ mikrohm-cm

• Kristal Yapı: Kübik

• Fiziksel Form: Pudra

Uygulama Alanları

1. Elektronik Sanayi

• Yüksek dielektrik sabiti sayesinde yarı iletken yalıtkan tabaka üretiminde kullanılır

• Entegre devrelerde MOSFET kapasitör malzemesi olarak tercih edilir

• Termal stabilitesiyle yüksek sıcaklık işlem teknolojilerinde avantaj sağlar

2. Optoelektronik Sistemler

• Kızılötesi optikler, yüksek performanslı lensler ve koruyucu kaplamalar için uygundur

• UV ve IR ışınımına karşı dayanıklı olup, optik geçirgenliği yüksektir

• Lazer sistemlerinde yansıtıcı kaplama olarak kullanılır

3. Yüksek Performanslı Seramik ve Kaplama Teknolojileri

• Yüksek ergime noktası sayesinde ısıya dayanıklı seramiklerde

• Metal yüzeylerde aşınma ve oksidasyona karşı dayanıklı kaplama uygulamalarında

4. Araştırma ve Geliştirme

• Kuantum noktaları, memristorlar, atomik katmanlı kaplama çalışmaları gibi yeni nesil teknolojilerde aktif rol oynar

Avantajlar

• Olağanüstü termal kararlılık

• Kimyasal inertlik ve yüksek elektriksel direnç

• İnce film teknolojilerinde geniş uyumluluk

• Kübik kristal yapısıyla optik netlik ve kaplama homojenliği