Özel Alaşım, Nitrür, Karbür ve Oksit Sputtering Target Çözümleri

İleri teknoloji kaplama ve mikroelektronik endüstrileri için yüksek saflıkta alaşım, nitrür, karbür ve oksit sputtering target çözümlerimizle üretim süreçlerinizi en üst düzeye çıkarın! Yarı iletken, optoelektronik, manyetik ve seramik kaplamalar gibi birçok uygulama için optimize edilen malzemelerimiz, yüksek performans ve mükemmel kaplama özellikleri sunar.

Ürün Kategorilerimiz:

Alaşım ve Bileşik Sputtering Targets

✅ Aluminum Silicon (Al-Si) Sputtering Targets – Mikroelektronik ve ince film transistörleri için idealdir.
✅ Aluminum Silicon Copper (Al-Si-Cu) Sputtering Targets – Entegre devrelerde mükemmel elektriksel ve termal iletkenlik sağlar.
✅ Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets – Yüksek optik geçirgenlik ve iletkenlik sağlayarak dokunmatik ekranlar, LCD’ler ve güneş panellerinde kullanılır.
✅ Indium Zinc Oxide (IZO) Sputtering Targets – Esnek ekranlar, OLED’ler ve yarı iletken kaplamalar için mükemmel bir malzemedir.
✅ Nickel Chromium (NiCr) Sputtering Targets – Dirençli ince film uygulamaları için yaygın olarak tercih edilir.
✅ Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Targets – Manyetik bellek depolama cihazlarında kullanılır.
✅ Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Targets – Yarı iletken ve termal vakum kaplamalarında tercih edilir.
✅ Lanthanum Aluminate (LaAlO₃) Sputtering Targets – Yüksek dielektrik sabitliğine sahip olup yarı iletken uygulamalarında kullanılır.

Nitrür, Karbür ve Florür Sputtering Targets

✅ Aluminum Nitride (AlN) Sputtering Targets – Yüksek termal iletkenlik ve yalıtkanlık sağlar, yarı iletken endüstrisinde tercih edilir.
✅ Boron Nitride (BN) Sputtering Targets – Aşınmaya dayanıklı seramik kaplamalar için idealdir.
✅ Silicon Nitride (Si₃N₄) Sputtering Targets – Mikroelektronik bileşenler ve yüksek sıcaklık uygulamalarında kullanılır.
✅ Titanium Nitride (TiN) Sputtering Targets – Sert, aşınmaya dayanıklı ve dekoratif kaplamalar için uygundur.
✅ Boron Carbide (B₄C) Sputtering Targets – Zırh kaplamaları ve aşınmaya dayanıklı yüzeyler için üstün bir çözümdür.
✅ Zinc Oxide with Alumina Sputtering Targets – Yarı iletken uygulamalar ve optik kaplamalar için optimize edilmiştir.
✅ Barium Fluoride (BaF₂) Sputtering Targets – Optik kaplamalar, IR lensleri ve lazer uygulamaları için kullanılır.

Manyetik ve Piezoelektrik Malzemeler

✅ Lanthanum Manganate (LaMnO₃) Sputtering Targets – Manyetik ve piezoelektrik uygulamalar için uygundur.
✅ Lanthanum Strontium Manganate (La₀.₇Sr₀.₃MnO₃) Sputtering Targets – Manyetik sensörler ve bellek cihazlarında kullanılır.
✅ Cobalt Iron Boron (CoFeB) Sputtering Targets – Yüksek manyetik geçirgenlik gerektiren uygulamalar için idealdir.
✅ Praseodymium Calcium Manganate (PrCaMnO₃) Sputtering Targets – Ferroelektrik kaplamalar ve direnç değiştirici bellekler (RRAM) için kullanılır.
✅ Yttrium Ferrite (Y₃Fe₅O₁₂) Sputtering Targets – Mikrodalga bileşenleri ve manyetik optik kaplamalar için mükemmel performans sunar.

Öne Çıkan Avantajlarımız

🔹 99.9% ve üzeri saflık – Üstün film kalitesi ve düşük safsızlık seviyesi
🔹 Yüksek yoğunluk ve homojen yapı – Stabil kaplama süreci ve yüksek mekanik dayanım
🔹 Geniş endüstriyel ve akademik kullanım alanı – Yarı iletkenler, optik sistemler, enerji depolama ve araştırmalar
🔹 Özel boyut ve şekillerde üretim imkanı – Projelerinize özel çözümler sunuyoruz