Tek Duvarlı Karbon Nanotüp TozlarKarbon NanotüplerTek Duvarlı NanotüplerTek Duvarlı Karbon Nanotüp, Saflık: > 96%
Nanoteknolojinin sınırlarını yeniden çizen Nanokar™ Tek Duvarlı Karbon Nanotüpler (TDKNT), Co-bazlı katalizörle metan ayrıştırılması ve sonrasında derin hava oksidasyonu yoluyla sentezlenmiştir. Bu yöntem, üründe neredeyse amorf karbon içermeyen ve olağanüstü saflıkta (> %96) nanotüplerin elde edilmesini sağlar.
Açıklama
Nanoteknolojinin sınırlarını yeniden çizen Nanokar™ Tek Duvarlı Karbon Nanotüpler (TDKNT), Co-bazlı katalizörle metan ayrıştırılması ve sonrasında derin hava oksidasyonu yoluyla sentezlenmiştir. Bu yöntem, üründe neredeyse amorf karbon içermeyen ve olağanüstü saflıkta (> %96) nanotüplerin elde edilmesini sağlar.
620°C’ye kadar çıkan tutuşma sıcaklığı, TDKNT’nin termal stabilitesini ve saflığını kanıtlar. Özgül yüzey alanı 570 m²/g, nano yüzey uygulamaları ve yüksek aktif yüzey gereksinimleri için idealdir.
Bu ürün, %80’in üzerinde şeffaflık ve <200 ohm/sq yüzey direnci ile dokunmatik ekranlar, OLED paneller, ince film güneş pilleri gibi ileri düzey şeffaf elektroniklerde şeffaf iletken film olarak üstün performans gösterir.
📊 Teknik Özellikler:
Özellik | Değer |
---|---|
Saflık (ağ%) | > 96% |
Renk | Siyah |
Ortalama Çap (nm) | 1.0 |
Dış / İç Çap (nm) | 1–2 / 0.8–1.6 |
Uzunluk (µm) | 20–55 |
Sıkıştırılmış Yoğunluk | 0.15 g/cm³ |
Gerçek Yoğunluk | 2.4 g/cm³ |
Özgül Yüzey Alanı | 570 m²/g |
Kül İçeriği | 3.0 ağ% |
Tutuşma Sıcaklığı | 620 °C |
Termal İletkenlik | 45–190 W/m·K |
Elektriksel İletkenlik | 98 S/cm |
Ig/Id Oranı | 20 |
Üretim Metodu | CVD |
🔬 Kapsamlı Uygulama Alanları:
-
Şeffaf iletken film üretimi (OLED, dokunmatik ekranlar, güneş panelleri)
-
Elektronik nano cihazlar: diyot, transistör, nanoteller
-
EMI koruyucu çok fonksiyonlu kompozit malzemeler
-
Isı ve elektrik iletkenliğini geliştiren kompozitler
-
Hidrojen depolama sistemleri
-
Lityum iyon bataryalar ve süper kapasitörler
-
Organik güneş pilleri, nanoelektronik, biosensör sistemleri
-
Kataliz destekleri, gaz sensörleri, fotolüminesans uygulamaları
💡 Ar-Ge ve Endüstriyel Kullanım Avantajları:
-
Yüksek Ig/Id oranı, yapısal bütünlüğü ve az hasarlı grafen tüp yapısını temsil eder.
-
Şeffaf elektronikler için düşük dirençli ve yüksek geçirgenlikli çözümler.
-
Yüksek yüzey alanı, katalitik yüzeyler ve enerji depolama uygulamaları için idealdir.
-
CVD yöntemiyle üretim, yüksek tekrarlanabilirlik ve homojenlik sunar.