🔬 Teknik Özellikler:

• Ortalama Parçacık Boyutu (nm): 65

• Morfoloji: Neredeyse küresel

• Kırılma İndisi: 2

• Gerçek Yoğunluk (g/cm³): 9,8

• Şeffaf Bant (µm): 0,2 – 9,0

🧪 Element Analizi (%):

• Fe: 0,0012

• Ni: 0,0009

• Mn: 0,0001

• Ti: 0,001

• Cu: 0,0005

🧬 Ürün Açıklaması:

Nanokar™ HfO₂ (Hafniyum Dioksit) Nanoparçacıkları, yüksek kırılma indisi, mükemmel termal kararlılık ve geniş optik geçirgenlik aralığı sayesinde optoelektronik, dielektrik ve kaplama teknolojilerinde tercih edilen stratejik bir nanomalzemedir.

Şeffaflık aralığı 0,2 – 9,0 µm olan bu ileri seviye nano-HfO₂, UV’den IR’ye kadar geniş bir spektrumda ışık geçirgenliği sağlayarak gelişmiş optik uygulamalarda rakipsiz performans sunar.

⚙️ Kullanım Alanları:

• Yüksek-k dielektrik malzemeler – Mikro/nano elektronik entegre devre uygulamaları

• UV ve IR optik kaplamalar – Lazer sistemleri, optik filtreler, sensör camları

• Fotolitografi maskeleri ve EUV sistemleri – Aşındırma dayanımı yüksek koruyucu katman

• Şeffaf seramik bileşenler – Yüksek sıcaklık ve radyasyon koşullarına direnç

• Termal bariyer kaplamalar – Havacılık, türbin ve ileri mühendislik alanları

• Biyouyumlu kaplama malzemesi – İmplant kaplamalarında kullanılabilir

• Kapasitör ve hafıza hücrelerinde – MOSFET, DRAM gibi ileri elektronik sistemler

📚 Bilimsel ve Endüstriyel Destekler:

• HfO₂’nin yüksek dielektrik sabiti (ε ≈ 25) sayesinde geleneksel SiO₂’ye alternatif olarak yarı iletken endüstrisinde kullanımı artmaktadır (Kaynak: IEEE Transactions on Electron Devices).

• Geniş band-gap (>5.3 eV) ile UV geçirgenliği ve yüksek sıcaklık kararlılığı, HfO₂’yi yüksek güçlü lazer uygulamaları için ideal kılar.

• Şeffaflık aralığı (0,2–9,0 µm) sayesinde kızılötesi ve UV optik sistemlerde cam alt tabaka olarak kullanılabilir.